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組合物的制作方法

文檔序號:19185944發布日期:2019-11-20 01:29
本發明涉及包含有機硅化合物和羧酸化合物的組合物。
背景技術
:在各種顯示裝置、光學元件、半導體元件、建筑材料、汽車部件、納米壓印技術等中,由于在基材的表面附著液滴,有時發生基材的污染、腐蝕、以及由該污染、腐蝕導致的性能下降等問題。因此,在這些領域中,要求基材表面的疏水性及疏油性良好。作為能實現疏水性及疏油性的被膜的組合物,以有機硅氧烷為主成分的組合物是已知的,例如,專利文獻1中,公開了前體(a)與交聯劑(b)的兩者混合液組合物,所述前體(a)為由作為有機硅基團的r1·si基(r1為一價烴基)和作為官能性側鏈的or2基(r2為氫原子或c1~c5的烷基或酰基)構成的液態有機硅氧烷的2種以上的組合化合物組。專利文獻1中,記載了通過預先用丙二酸二酯、乙酰丙酮等酮·烯醇型互變異構化合物將交聯劑(b)掩蔽,從而組合物的保存穩定性提高。現有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開平5-230375號公報技術實現要素:發明所要解決的課題如專利文獻1中記載那樣,對于被膜形成用組合物,有時要求保存穩定性良好,本申請的發明人經研究發現,即使利用專利文獻1中公開的組合物,其保存穩定性也尚不能說是充分的。因此,本發明的目的在于提供一種保存穩定性優異的、包含有機硅化合物的組合物。用于解決課題的手段本發明涉及下述的包含有機硅化合物和羧酸化合物的組合物。[1]組合物,其包含:下述式(a1)表示的有機硅化合物(a1),下述式(b1)表示的金屬化合物(b),羧酸化合物(c),和酸催化劑。[化學式1][前述式(a1)中,ra10表示亞甲基的一部分可以替換成氧原子、1個以上的氫原子可以替換成氟原子的碳原子數為6~20的烷基,多個aa1各自獨立地表示水解性基團,za1表示含有烴鏈的基團,x為0或1,za1與ra10可以相同也可以不同。另外,在多個式(a1)之間,ra10與za1可以相同也可以不同。][化學式2]m(rb10)r(ab1)m-r(b1)[前述式(b1)中,rb10表示碳原子數為5以下的含有烴鏈的基團,ab1各自獨立地表示水解性基團,m表示al、fe、in、ge、hf、si、ti、sn、zr、或ta。m根據金屬原子而表示1~5的整數,r為0或1。][2]如[1]所述的組合物,其中,前述式(a1)表示的有機硅化合物(a1)、前述式(b1)表示的金屬化合物(b)及前述羧酸化合物(c)的總濃度為0.02質量%以上且30質量%以下。[3]組合物,其包含:下述式(a1)表示的有機硅化合物(a1),下述式(b1)表示的金屬化合物(b),和羧酸化合物(c),前述有機硅化合物(a1)及前述羧酸化合物(c)的總濃度為0.001質量%以上且3.5質量%以下。[化學式3][前述式(a1)中,ra10表示亞甲基的一部分可以替換成氧原子、1個以上的氫原子可以替換成氟原子的碳原子數為6~20的烷基,多個aa1各自獨立地表示水解性基團,za1表示含有烴鏈的基團,x為0或1,za1與ra10可以相同也可以不同。另外,在多個式(a1)之間,ra10與za1可以相同也可以不同。][化學式4]m(rb10)r(ab1)m-r(b1)[前述式(b1)中,rb10表示碳原子數為5以下的含有烴鏈的基團,ab1各自獨立地表示水解性基團,m表示al、fe、in、ge、hf、si、ti、sn、zr、或ta。m根據金屬原子而表示1~5的整數,r為0或1。][4]如[1]~[3]中任一項所述的組合物,其中,前述金屬化合物(b)與前述有機硅化合物(a1)的摩爾比(b/a1)為0.1以上且48以下。[5]如[1]~[4]中任一項所述的組合物,其中,前述有機硅化合物(a1)由下述式(a1-2)表示。[化學式5]ra11-si(aa1)3(a1-2)[前述式(a1-2)中,ra11為氫原子可以被氟原子取代的碳原子數為6~20的烷基,多個aa1各自獨立地表示水解性基團。][6]組合物,其包含:下述式(a2)表示的有機硅化合物(a2),下述式(b1)表示的金屬化合物(b),和羧酸化合物(c)。[化學式6][前述式(a2)中,ra20表示含有三烷基甲硅烷基的分子鏈,多個aa2各自獨立地表示水解性基團,za2表示含有三烷基甲硅烷基的分子鏈、或含有硅氧烷骨架的基團,y為0或1。][化學式7]m(rb10)r(ab1)m-r(b1)[前述式(b1)中,rb10表示碳原子數為5以下的含有烴鏈的基團,ab1各自獨立地表示水解性基團,m表示al、fe、in、ge、hf、si、ti、sn、zr、或ta。m根據金屬原子而表示1~5的整數,r為0或1。][7]如[6]所述的組合物,其中,前述有機硅化合物(a2)由下述式(a2-2)表示。[化學式8][前述式(a2-2)中,n為1~30][8]如[6]或[7]所述的組合物,其中,前述金屬化合物(b)與前述有機硅化合物(a2)的摩爾比(b/a2)為0.1以上且48以下。[9]如[1]~[8]中任一項所述的組合物,其中,相對于前述有機硅化合物(a1)或有機硅化合物(a2)、與金屬化合物(b)的合計100質量份而言,上述羧酸化合物(c)為1~21質量份。[10]如[1]~[9]中任一項所述的組合物,其中,前述金屬化合物(b)由下述式(b2)表示。[化學式9]si(orb11)4(b2)[前述式(b2)中,rb11為碳原子數為1~6的烷基][11]如[1]~[10]中任一項所述的組合物,其中,前述羧酸化合物(c)為多元羧酸。[12]如[1]~[11]中任一項所述的組合物,其中,前述羧酸化合物(c)由下述式(c1)表示。[化學式10][前述式(c1)中,rc1及rc2各自獨立地表示單鍵、可以具有羧基的碳原子數為1~10的2價脂肪族烴基、或可以具有羧基的碳原子數為6~10的2價芳香族烴基。rc3及rc4各自獨立地表示可以具有羧基的碳原子數為1~10的烷基、或氫原子。q1表示0或1。][13]如[1]~[12]中任一項所述的組合物,其中,前述羧酸化合物(c)由下述式(c2)表示。[化學式11][前述式(c2)中,p表示0~2的整數。]發明的效果通過本發明,能抑制由在常溫下保存一定時間后的組合物得到的被膜的性能下降。具體實施方式本發明的組合物具有下述特征,包含:在硅原子上鍵合有烷基和水解性基團的有機硅化合物(為后述的式(a1)表示的有機硅化合物,稱為有機硅化合物(a1))、和在金屬原子上鍵合有水解性基團的金屬化合物(b)、以及羧酸化合物(c)及酸催化劑(第1組合物)。這樣的組合物中,通過存在羧酸化合物(c)及酸催化劑,由此,在硅原子或金屬原子上鍵合的水解性基團發生水解、縮聚的反應雖然仍以一定程度進行但可趨于緩和,能提高組合物的保存穩定性,并且,還能提高被膜的耐磨損性。另外,通過前述的水解性基團的水解、縮聚而形成的被膜由于前述的烷基而成為具有疏水性、疏油性的被膜。另外,本發明的組合物的另一方式為包含前述有機硅化合物(a1)、金屬化合物(b)及羧酸化合物(c)的組合物,該組合物中的有機硅化合物(a1)及羧酸化合物(c)的總濃度為0.001質量%以上且3.5質量%以下(第2組合物)。通過使有機硅化合物(a1)及羧酸化合物(c)的總濃度為規定范圍,能提高組合物的保存穩定性。此外,本發明的組合物的另一方式為包含在硅原子上鍵合有含有三烷基甲硅烷基的分子鏈和水解性基團的有機硅化合物(為后述的式(a2)表示的有機硅化合物,稱為有機硅化合物(a2))、和金屬化合物(b)、及羧酸化合物(c)的組合物(第3組合物)。這樣的組合物也能提高組合物的保存穩定性。另外,通過前述的水解性基團的水解、縮聚而形成的被膜由于前述的三烷基甲硅烷基而成為具有疏水性、疏油性的被膜。需要說明的是,本說明書中,所謂“金屬”,以也包含si、ge等準金屬的含義使用。以下,依次對有機硅化合物(a1)及(a2)(有時將兩者一并稱為有機硅化合物(a))、金屬化合物(b)及羧酸化合物(c)進行說明。1.有機硅化合物(a)本發明中的有機硅化合物(a)為下述式(a1)或(a2)表示的化合物。1-1.式(a1)表示的有機硅化合物(a1)[化學式12]前述式(a1)中,ra10表示亞甲基的一部分可以替換成氧原子、1個以上的氫原子可以替換成氟原子的碳原子數為6~20的烷基,多個aa1各自獨立地表示水解性基團,za1表示含有烴鏈的基團,x為0或1,za1與ra10可以相同也可以不同。另外,在多個式(a1)之間,ra10與za1可以相同也可以不同。ra10為亞甲基的一部分可以替換成氧原子、1個以上的氫原子可以替換成氟原子的碳原子數為6~20的烷基,通過該烷基,可向得到的被膜表面賦予疏水性、疏油性。尤其是,水滴或油滴等液滴與被膜之間的摩擦系數變小,液滴變得容易移動。ra10通常僅由烴鏈構成,根據需要,該烴鏈的一部分亞甲基(-ch2-)可以替換成氧原子,氫原子可以替換成氟原子。需要說明的是,與si原子相鄰的亞甲基不替換成氧原子,另外,連續的2個亞甲基也不會同時替換成氧原子。ra10的碳原子數優選為7以上,更優選為8以上,另外,優選為17以下,更優選為15以下。ra10可以為支鏈,也可以為直鏈,優選為直鏈。關于ra10,包括己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。作為烴鏈的一部分亞甲基(-ch2-)替換成氧原子而成的烷基,可例舉具有(聚)乙二醇單元的基團、具有(聚)丙二醇單元的基團等。作為1個以上的氫原子替換成氟原子而成的烷基,可舉出末端為三氟甲基的氟烷基。za1為含有烴鏈的基團,是指在結構的至少一部分中具有烴鏈的基團。za1的含有烴鏈的基團通常僅由烴基(烴鏈)構成,根據需要,該烴鏈的一部分亞甲基可以替換成氧原子。即使是像這樣一部分被氧原子替換的基團,由于在其余部分存在烴鏈,因而也被分類為含有烴鏈的基團。需要說明的是,與ra10同樣,與si原子相鄰的亞甲基不替換成氧原子,另外,連續的2個亞甲基也不會同時替換成氧原子。za1的烴鏈部分的碳原子數優選為1以上且20以下,優選為1以上且10以下,更優選為1以上且5以下。特別優選za1為烴基,且碳原子數為前述范圍。需要說明的是,所謂烴鏈部分的碳原子數,對于氧非替換型的含有烴鏈的基團而言,是指構成烴基(烴鏈)的碳原子的數目,對于氧替換型的含有烴鏈的基團而言,是指將氧原子假定為亞甲基而進行計數時的碳原子的數目。另外,優選za1的烴鏈部分的最長的鏈長比ra10的最長的鏈長更短,此時,za1更優選為烴基。za1優選為飽和或不飽和的脂肪族烴基,更優選為直鏈狀的飽和脂肪族烴基。直鏈狀的飽和脂肪族烴基包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基等。烴鏈的一部分亞甲基替換成氧原子時,含有烴鏈的基團優選為飽和脂肪族烴基,具體而言,可例舉具有(聚)乙二醇單元的基團等。za1的數目x為0或1,x優選為0。aa1表示水解性基團,多個aa1可以相同也可以不同。作為水解性基團,為通過水解而提供羥基(硅烷醇基)的基團即可,可舉出例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子數為1~6(優選的碳原子數為1~4)的烷氧基、羥基、乙酰氧基、氯原子、異氰酸酯基等。其中,aa1優選為碳原子數為1~4的烷氧基,更優選為碳原子數為1~2的烷氧基,這些情況下,進一步優選多個aa1全部相同。作為式(a1)表示的有機硅化合物(a),優選的是,ra10為碳原子數為6~20的烷基(氫原子可以被氟原子取代),x為0。即,優選的有機硅化合物(a)可由下述式(a1-2)表示。[化學式13]ra11-si(aa1)3(a1-2)前述式(a1-2)中,ra11為氫原子可以被氟原子取代的碳原子數為6~20的烷基,多個aa1各自獨立地表示水解性基團。式(a1-2)表示的化合物中,尤其是,ra11優選為未被氟原子取代的未取代烷基,進一步優選3個aa1均為相同的水解性基團。作為這樣的有機硅化合物(a),可舉出具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三甲氧基硅烷、具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三乙氧基硅烷等具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三烷氧基硅烷;具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三羥基硅烷;具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三乙酰氧基硅烷;具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三氯硅烷;具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三異氰酸酯基硅烷;等等。其中,優選具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三甲氧基硅烷、具有碳原子數為6~20的烷基的烷基三乙氧基硅烷。1-2.式(a2)表示的有機硅化合物(a2)[化學式14]前述式(a2)中,ra20表示含有三烷基甲硅烷基的分子鏈,多個aa2各自獨立地表示水解性基團,za2表示含有三烷基甲硅烷基的分子鏈、或含有硅氧烷骨架的基團,y為0或1。ra20的含有三烷基甲硅烷基的分子鏈為具有含有三烷基甲硅烷基的基團鍵合于分子鏈的末端而成的結構的1價基團,通過在分子鏈上鍵合含有三烷基甲硅烷基的基團,從而使由本發明的組合物形成的被膜的疏水性及疏油性提高。另外,通過存在含有三烷基甲硅烷基的分子鏈,從而減小液滴(水滴、油滴等)與該被膜之間的摩擦,液滴變得容易移動。即使在含有三烷基甲硅烷基的基團的烷基被替換成氟烷基的情況下,同樣也能提高該被膜界面(表面)的疏水·疏油性。前述含有三烷基甲硅烷基的基團為包含至少1個三烷基甲硅烷基的基團,優選包含2個以上三烷基甲硅烷基,進一步優選包含3個三烷基甲硅烷基。含有三烷基甲硅烷基的基團優選為式(s1)表示的基團。[化學式15]式(s1)中,rs1表示烴基或三烷基甲硅烷基氧基,該烴基或三烷基甲硅烷基氧基中包含的氫原子可以被氟原子取代。作為氟原子的取代數,將碳原子的數目記為a時,優選為1以上,更優選為3以上,優選為2×a+1以下。另外,烷基中包含的氫原子被氟原子取代時,被取代的烷基的數目可在平均1個硅原子成為1~3的范圍內適當選擇。其中,rs1均為烴基時,rs1為烷基。*表示連接鍵。rs1為烴基時,其碳原子數優選為1~4,更優選為1~3,進一步優選為1~2。rs1為烴基時,優選為脂肪族烴基,更優選為烷基。作為該烷基,可舉出甲基、乙基、丙基、丁基等。多個rs1可以相同也可以不同,優選相同。rs1均為烴基時,3個rs1的總碳原子數優選為9以下,更優選為6以下,進一步優選為4以下。優選3個rs1中至少1個為甲基,更優選至少2個為甲基,特別優選3個rs1均為甲基。作為rs1均為烴基(烷基)的基團(即,式(s1)表示的基團為三烷基甲硅烷基),具體而言,可舉出下述式表示的基團等。式中,*表示連接鍵。[化學式16]上述式(s1)中,rs1中的至少1個可以為三烷基甲硅烷基氧基。在這種情況下,含有三烷基甲硅烷基的分子鏈也將具有三烷基甲硅烷基。作為前述三烷基甲硅烷基氧基,可舉出在rs1均為烴基(烷基)的基團(三烷基甲硅烷基)的硅原子上鍵合氧原子而成的基團。上述式(s1)中,也優選rs1均為三烷基甲硅烷基氧基。作為rs1中的至少1個為三烷基甲硅烷基氧基的基團,可舉出下述式表示的基團。[化學式17]含有三烷基甲硅烷基的分子鏈中,三烷基甲硅烷基優選鍵合于分子鏈的末端(自由端側)、尤其是分子鏈的主鏈(最長直鏈)的末端(自由端側)。鍵合有三烷基甲硅烷基的分子鏈優選為直鏈狀或支鏈狀,優選為直鏈狀。前述分子鏈優選包含二烷基硅氧烷鏈,優選包含直鏈狀二烷基硅氧烷鏈。另外,前述分子鏈可包含2價烴基。即使分子鏈的一部分為2價烴基,由于其余部分為二烷基硅氧烷鏈,因而得到的被膜的化學·物理耐久性也良好。前述分子鏈優選為式(s2)表示的基團。[化學式18]式(s2)中,rs2表示碳原子數為1~4的烷基。zs1表示-o-或2價烴基,該2價烴基中包含的-ch2-可以被替換成-o-。ys1表示單鍵或-si(rs2)2-ls1-。ls1表示2價烴基,該2價烴基中包含的-ch2-可以被替換成-o-。n1表示1以上的整數。左側的*表示與中心硅原子的連接鍵,右側的*表示與含有三烷基甲硅烷基的基團的連接鍵。前述rs2表示的烷基的碳原子數優選為1~4,更優選為1~3,進一步優選為1~2。作為rs2表示的烷基,可舉出甲基、乙基、丙基、丁基等,優選甲基或乙基,特別優選甲基。n1優選為1~100,更優選為1~80,進一步優選為1~50,特別優選為1~30。zs1或ls1表示的2價烴基的碳原子數優選為1~10,更優選為1~6,進一步優選為1~4。前述2價烴基優選為鏈狀,為鏈狀時,可以為直鏈狀、支鏈狀中的任何。另外,前述2價烴基優選為2價脂肪族烴基,優選為烷烴二基。作為2價烴基,可舉出亞甲基、亞乙基、亞丙基、亞丁基等烷烴二基。此外,前述2價烴基中包含的一部分-ch2-可以替換成-o-。這種情況下,連續的2個-ch2-不會同時替換成-o-,與si原子相鄰的-ch2-不替換成-o-。2個以上的-ch2-替換成-o-時,-o-與-o-之間的碳原子數優選為2~4,進一步優選為2~3。作為2價烴基的一部分被替換成-o-而得到的基團,具體而言,可例舉具有(聚)乙二醇單元的基團、具有(聚)丙二醇單元的基團等。前述式(s2)中,優選zs1為-o-、ys1為單鍵,即,前述分子鏈優選僅由二烷基甲硅烷基氧基的重復單元形成。二烷基硅氧烷鏈僅由二烷基甲硅烷基氧基的重復單元形成的情況下,得到的被膜的化學·物理耐久性良好。作為含有三烷基甲硅烷基的分子鏈中包含的分子鏈,可舉出下述式表示的分子鏈。式中,p1表示1~30的整數,*表示與形成聚硅氧烷骨架的硅原子或三烷基甲硅烷基鍵合的連接鍵。[化學式19][化學式20][化學式21]另外,構成含有三烷基甲硅烷基的分子鏈的元素的總數優選為24以上,更優選為40以上,進一步優選為50以上,優選為1200以下,更優選為700以下,進一步優選為250以下。含有三烷基甲硅烷基的分子鏈優選為下述式(s3)表示的基團。[化學式22]式(s3)中,rs1、rs2、zs1、ys1、n1與上述含義相同。*表示與硅原子的連接鍵。含有三烷基甲硅烷基的分子鏈更優選為下述式(s3-1)表示的基團,進一步優選為下述式(s3-1-1)表示的基團。[化學式23]式(s3-1)及(s3-1-1)中,rs2、ys1、zs1、n1與上述含義相同。rs3表示碳原子數為1~4的烷基。*表示與硅原子的連接鍵。另外,含有三烷基甲硅烷基的分子鏈還優選為下述式(s3-2)表示的基團,進一步優選為下述式(s3-2-1)表示的基團。[化學式24]式(s3-2)及式(s3-2-1)中,rs2、rs3、ys1、zs1與上述含義相同。n2表示1以上的整數。*表示與硅原子的連接鍵。n2優選為1~100,更優選為1~80,進一步優選為1~50,特別優選為1~30。rs3表示的烷基的碳原子數優選為1~3,更優選為1~2。另外,*-si(rs3)3中包含的rs3的總碳原子數優選為9以下,更優選為6以下,進一步優選為4以下。此外,*-si(rs3)3中包含的rs3中,優選至少1個為甲基,優選2個以上rs3甲基,特別優選3個rs3全部為甲基。作為含有三烷基甲硅烷基的分子鏈,可舉出式(s3-i)表示的基團。[化學式25][表1]zs10rs20n10ys10rs10(s3-i-1)*-o-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(s3-i-2)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(s3-i-3)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(s3-i-4)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(s3-i-5)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(s3-i-6)*-ch2-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(s3-i-7)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(s3-i-8)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(s3-i-9)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(s3-i-10)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(s3-i-11)*-(ch2)2-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(s3-i-12)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(s3-i-13)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(s3-i-14)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(s3-i-15)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(s3-i-16)*-(ch2)3-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(s3-i-17)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(s3-i-18)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(s3-i-19)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(s3-i-20)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(s3-i-21)*-(ch2)4-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(s3-i-22)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(s3-i-23)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(s3-i-24)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(s3-i-25)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*[表2]zs10rs20n10ys10rs10(s3-i-26)*-o-*ch3-*1~30-ch3-*(s3-i-27)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(s3-i-28)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(s3-i-29)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(s3-i-30)*-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(s3-i-31)*-ch2-*ch3-*1~30-ch3-*(s3-i-32)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(s3-i-33)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(s3-i-34)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(s3-i-35)*-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(s3-i-36)*-(ch2)2-*ch3-*1~30-ch3-*(s3-i-37)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(s3-i-38)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(s3-i-39)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(s3-i-40)*-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(s3-i-41)*-(ch2)3-*ch3-*1~30-ch3-*(s3-i-42)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(s3-i-43)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(s3-i-44)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(s3-i-45)*-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(s3-i-46)*-(ch2)4-*ch3-*1~30-ch3-*(s3-i-47)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(s3-i-48)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(s3-i-49)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(s3-i-50)*-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*接下來,對式(a2)中的aa2進行說明。多個aa2各自獨立地為水解性基團,為通過水解而提供羥基(硅烷醇基)的基團即可,優選可舉出例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子數為1~4的烷氧基;羥基;乙酰氧基;氯原子;異氰酸酯基;等等。其中,aa2優選為碳原子數為1~4的烷氧基,更優選為碳原子數為1~2的烷氧基。式(a2)中的za2表示含有三烷基甲硅烷基的分子鏈、或含有硅氧烷骨架的基團。za2為含有三烷基甲硅烷基的分子鏈時,可舉出與上述ra20同樣的例子。另外,za2為含有硅氧烷骨架的基團時,前述含有硅氧烷骨架的基團為含有硅氧烷單元(si-o-)的1價基團,優選由比構成ra20的含有三烷基甲硅烷基的分子鏈的元素數更少的數目的元素構成。由此,含有硅氧烷骨架的基團成為比含有三烷基甲硅烷基的分子鏈長度短、或立體體積(空間位阻)小的基團。含有硅氧烷骨架的基團可包含2價烴基。含有硅氧烷骨架的基團優選為下述式(s4)表示的基團。[化學式26]式(s4)中,rs2與上述含義相同。rs5表示烴基或羥基,該烴基中包含的-ch2-可以替換成-o-,該烴基中包含的氫原子可以被氟原子取代。zs2表示-o-或2價烴基,該2價烴基中包含的-ch2-可以被替換成-o-。ys2表示單鍵或-si(rs2)2-ls2-。ls2表示2價烴基,該2價烴基中包含的-ch2-可以被替換成-o-。n3表示0~5的整數。*表示與硅原子的連接鍵。作為rs5表示的烴基,可舉出與rs1表示的烴基同樣的基團,優選脂肪族烴基,更優選烷基。碳原子數優選為1~4,更優選為1~3,進一步優選為1~2。作為zs2或ls2表示的2價烴基,可舉出與zs1表示的2價烴基同樣的基團,碳原子數優選為1~10,更優選為1~6,進一步優選為1~4。另外,zs2或ls2表示的2價烴基優選為2價脂肪族烴基,進一步優選為直鏈狀或支鏈狀的烷烴二基。n3優選為1~5,更優選為1~3。含有硅氧烷骨架的基團的元素總數優選為100以下,更優選為50以下,進一步優選為30以下,優選為10以上。另外,ra20的含有三烷基甲硅烷基的分子鏈與za2的含有硅氧烷骨架的基團的元素數之差優選為10以上,更優選為20以上,優選為1000以下,更優選為500以下,進一步優選為200以下。作為含有硅氧烷骨架的基團,具體而言,可舉出下述式表示的基團。[化學式27]式(a2)中的y為0或1,優選為0。式(a2)表示的有機硅化合物(a)優選為下述式(i-1)表示的化合物,更優選為式(i-1-1)表示的化合物。[化學式28]式(i-1)及(i-1-1)中,aa2、ys1、zs1、rs2、rs3、n1分別與上述含義相同。式(a2)表示的有機硅化合物(a)可以為式(i-2)表示的化合物,優選可以為式(i-2-1)表示的化合物。[化學式29]式(i-2)及式(i-2-1)中,aa2、ys1、zs1、rs2、rs3、n2分別與上述含義相同。關于式(a2)表示的有機硅化合物(a),具體而言,可舉出式(i-i)表示的基團。[化學式30][表3-1]aa20zs10rs20n10ys10rs10(i-i-1)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-2)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-3)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-4)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-5)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-6)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-7)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-8)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-9)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-10)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-11)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-12)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-13)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-14)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-15)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-16)c2h5o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-17)c2h5o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-18)c2h5o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-19)c2h5o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-20)c2h5o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-21)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-22)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-23)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-24)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-25)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*[表3-2]aa20zs10rs20n10ys10rs10(i-i-26)ch3o-**-o-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-27)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-28)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-29)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-30)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-31)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-32)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-33)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-34)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-35)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-36)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-37)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-38)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-39)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-40)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-41)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-42)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-43)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-44)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-45)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*(i-i-46)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30-(ch3)3sio-*(i-i-47)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*(ch3)3sio-*(i-i-48)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*(ch3)3sio-*(i-i-49)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*(ch3)3sio-*(i-i-50)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*(ch3)3sio-*[表4-1]aa10zs10rs20n10ys10rs10(i-i-51)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-52)c2h5c-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-53)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-54)c2h5o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-55)c2h5c-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-56)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-57)c2h5c-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-58)c2h5c-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-59)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-60)c2h5o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-61)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-62)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-63)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-64)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-65)c2h5o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-66)c2h5c-**-(ch2)3-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-67)c2h5c-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-68)c2h5o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-69)c2h5o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-70)c2h5c-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-71)c2h5c-**-(ch2)4-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-72)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-73)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-74)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-75)c2h5o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*[表4-2]aa10zs10rs20n10ys10rs10(i-i-76)ch3o-**-o-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-77)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-78)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-79)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-80)ch3o-**-o-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-81)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-82)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-83)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-84)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-85)ch3o-**-ch2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-86)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-87)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-88)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-89)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-90)ch3o-**-(ch2)2-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-91)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-92)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-93)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-94)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-95)ch3o-**-(ch2)3-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*(i-i-96)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30-ch3-*(i-i-97)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-ch2-*ch3-*(i-i-98)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)2-*ch3-*(i-i-99)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)3-*ch3-*(i-i-100)ch3o-**-(ch2)4-*ch3-*1~30*-si(ch3)2-(ch2)4-*ch3-*上述(i-i)式中,更優選(i-i-26)表示的基團。即,作為式(a2)表示的有機硅化合物(a),優選下述式(a2-2)表示的有機硅化合物。[化學式31]前述式(a2-2)中,n為1~30。作為式(a2)表示的有機硅化合物(a)的合成方法的例子,可舉出下述這樣的方法。作為第一方法,可通過使含有三烷基甲硅烷基的分子鏈與鹵素原子(優選氯原子)鍵合而成的化合物、與在硅原子上鍵合有3個以上(尤其是4個)水解性基團的化合物反應來制造。作為第二合成方法,可通過使在二烷基硅氧烷鏈的兩末端鍵合有鹵素原子的化合物(以下,稱為“二鹵代二烷基硅氧烷”)、鍵合有三(三烷基甲硅烷基氧基)甲硅烷基和m1o-基(m1表示堿金屬。)的化合物(以下,記為“堿金屬硅醇鹽”)及在硅原子上鍵合有4個水解性基團的化合物反應來制造。這些化合物的反應順序沒有限制,優選首先使二鹵代二烷基硅氧烷與堿金屬硅醇鹽反應,接下來與在硅原子上鍵合有4個水解性基團的化合物反應。作為前述鹵素原子,可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等,優選氯原子。另外,作為前述堿金屬,優選鋰。堿金屬硅醇鹽例如可通過使鍵合有三(三烷基甲硅烷基氧基)甲硅烷基和羥基的化合物與烷基堿金屬反應來制造。作為有機堿金屬化合物,可舉出正丁基鋰、仲丁基鋰、叔丁基鋰等烷基鋰,特別優選為正丁基鋰。另外,作為第三合成方法,有機硅化合物例如也可通過使堿金屬硅醇鹽和環狀二甲基硅氧烷反應,接下來,與在硅原子上鍵合有3個水解性基團和1個鹵素原子(尤其是氯原子)的化合物反應來制造。環狀二甲基硅氧烷中包含的硅原子的數目例如優選為2以上且10以下,更優選為2以上且5以下,進一步優選為2以上且4以下。2.金屬化合物(b)金屬化合物(b)如下述式(b1)所示那樣,是在金屬原子m上鍵合有水解性基團的化合物。如上所述,對于由本發明的組合物得到的被膜而言,通過來自有機硅化合物(a)的碳原子數為6以上的烷基或含有三烷基甲硅烷基的分子鏈而被提高了疏水·疏油功能,認為未鍵合這樣的烷基、含有三烷基甲硅烷基的分子鏈的金屬元素m在被膜中作為間隔物(spacer)發揮功能。[化學式32]m(rb10)r(ab1)m-r(b1)前述式(b1)中,rb10表示碳原子數為5以下的含有烴鏈的基團,ab1各自獨立地表示水解性基團,m表示al、fe、in、ge、hf、si、ti、sn、zr、或ta。m根據金屬原子而表示1~5的整數,r為0或1。rb10是碳原子數為5以下、且在結構的至少一部分中具有烴鏈的基團。rb10的含有烴鏈的基團通常僅由烴基(烴鏈)構成,根據需要,該烴鏈的一部分亞甲基可以替換成氧原子。需要說明的是,與ra10同樣,與金屬原子m相鄰的亞甲基不替換成氧原子,另外,連續的2個亞甲基也不會同時替換成氧原子。rb10的烴鏈部分的碳原子數優選為4以下。另外,rb10優選為飽和或不飽和的脂肪族烴基,更優選為直鏈狀的飽和脂肪族烴基,包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基等,特別優選為甲基、乙基、丙基、丁基。烴鏈的一部分亞甲基替換成氧原子時,含有烴鏈的基團優選為飽和脂肪族烴基,具體而言,可例舉具有(聚)乙二醇單元的基團等。r為0或1,優選為0。關于ab1的水解性基團,可舉出上述式(a1)的aa1中例舉的水解性基團,多個ab1可以相同也可以不同,但優選相同。作為ab1的水解性基團,優選為碳原子數為1~6的烷氧基,更優選為碳原子數為1~4的烷氧基,進一步優選為甲氧基或乙氧基,這些情況下,特別優選多個ab1相同。m優選為al、si、ti、zr、sn,更優選為al、si、ti、zr,進一步優選為si。在m為al、fe、in等3價金屬時,m的值為3,在m為ge、hf、si、ti、sn、zr等4價金屬時,m的值為4,在m為ta等5價金屬時,m的值為5。作為金屬化合物(b),可舉出r=0、即在金屬原子上僅鍵合有水解性基團的化合物;r=1、即在金屬原子上鍵合有1個碳原子數為5以下的含有烴鏈的基團和2個水解性基團的化合物。作為在金屬原子上僅鍵合有水解性基團的化合物,可舉出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等四烷氧基硅烷;三乙氧基鋁、三丙氧基鋁、三丁氧基鋁等三烷氧基鋁;三乙氧基鐵等三烷氧基鐵;三甲氧基銦、三乙氧基銦、三丙氧基銦、三丁氧基銦等三烷氧基銦;四甲氧基鍺、四乙氧基鍺、四丙氧基鍺、四丁氧基鍺等四烷氧基鍺;四甲氧基鉿、四乙氧基鉿、四丙氧基鉿、四丁氧基鉿等四烷氧基鉿;四甲氧基鈦、四乙氧基鈦、四丙氧基鈦、四丁氧基鈦等四烷氧基鈦;四甲氧基錫、四乙氧基錫、四丙氧基錫、四丁氧基錫等四烷氧基錫;四甲氧基鋯、四乙氧基鋯、四丙氧基鋯、四丁氧基鋯等四烷氧基鋯;五甲氧基鉭、五乙氧基鉭、五丙氧基鉭、五丁氧基鉭等五烷氧基鉭;等等。作為在金屬原子上鍵合有1個碳原子數為5以下的含有烴鏈的基團和2個水解性基團的化合物,可舉出甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷等烷基三烷氧基硅烷;乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等鏈烯基三烷氧基硅烷;等等。作為金屬化合物(b),優選下述式(b2)表示的化合物。[化學式33]si(orb11)4(b2)前述式(b2)中,rb11為碳原子數為1~6的烷基。rb11優選為碳原子數為1~4的烷基,更優選為甲基或乙基。前述金屬化合物(b)與前述有機硅化合物(a)(有機硅化合物(a1)或(a2))的摩爾比(b/a)優選為0.1以上且48以下。b/a更優選為44以下,進一步優選為40以下,進一步優選為36以下。另外,b/a可以為1以上,可以為5以上,可以為10以上。3.羧酸化合物(c)本發明的組合物不僅包含上述的有機硅化合物(a)(有機硅化合物(a1)或(a2))及金屬化合物(b),還包含羧酸化合物(c)。通過包含羧酸化合物(c),能抑制在硅原子或金屬原子上鍵合的水解性基團發生水解、縮聚的反應,能抑制組合物發生凝膠化而損害保存穩定性的情況。羧酸化合物是指具有至少1個羧基的化合物,可以是一元羧酸、多元羧酸(具有2個以上羧基的羧酸)中的任一種,優選為多元羧酸。作為多元羧酸,更優選為2個羧基直接鍵合而成的草酸、或在2價烴基的兩末端鍵合羧基、且該烴基的主鏈(最長直鏈)的碳原子數為1~15(更優選碳原子數為1~5,進一步優選碳原子數為1~4,特別優選碳原子數為1~2)的多元羧酸(尤其是二羧酸、三羧酸或四羧酸)。此時,前述2價烴基可以為直鏈狀,也可以為支鏈狀,可以為脂肪族烴基,也可以為芳香族烴基,另外,可以為飽和烴基,也可以為不飽和烴基,另外,也可在該烴基的兩末端以外的碳原子上鍵合有羥基、羧基。作為這樣的羧酸,可舉出草酸、丙二酸、琥珀酸、馬來酸、富馬酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、酒石酸、蘋果酸、鄰苯二甲酸、衣康酸、粘康酸、1,4-環己烷二甲酸、1,4-萘二甲酸、2,6-萘二甲酸、2,7-萘二甲酸、4,4’-聯苯二甲酸等二羧酸;檸檬酸、烏頭酸、偏苯三甲酸、均苯三甲酸、聯苯-3,4’,5-三甲酸等三羧酸;丁烷四甲酸等四羧酸等。羧酸化合物(c)優選為多元羧酸,更優選為草酸、或者在碳原子數為1~3(尤其是1~2)的飽和或不飽和的直鏈狀烴基的兩末端鍵合有羧基的二羧酸、或三羧酸。作為多元羧酸,可舉出草酸、丙二酸、琥珀酸、馬來酸、戊二酸、丙三羧酸等,特別優選草酸、丙二酸、琥珀酸、馬來酸、丙三羧酸。羧酸化合物(c)可以為在分子內具有至少1個羧基的聚合物。作為該聚合物,可舉出例如包含在側鏈上具有羧基的結構單元的聚合物,可包含2種以上的在側鏈上具有羧基的結構單元。作為在分子內具有至少1個羧基的聚合物,可舉出具有羧基的(甲基)丙烯酸系聚合物、具有羧基的聚酯聚合物、具有羧基的聚烯烴聚合物等。羧酸化合物(c)的分子量優選為1000以下,更優選為500以下,優選為50以上,更優選為80以上。羧酸化合物(c)優選為下述式(c1)表示的化合物。[化學式34][式(c1)中,rc1及rc2各自獨立地表示單鍵、可以具有羧基的碳原子數為1~10的2價脂肪族烴基或可以具有羧基的碳原子數為6~10的2價芳香族烴基。rc3及rc4各自獨立地表示可以具有羧基的碳原子數為1~10的烷基、或氫原子。q1表示0或1。]rc1及rc2表示的碳原子數為1~10的2價脂肪族烴基可以為直鏈,也可以為支鏈,也可以為環狀。具體而言,可舉出亞甲基、亞乙基、亞丙基、亞丁基等烷烴二基等。作為rc1及rc2表示的2價芳香族烴基,可舉出亞苯基等。rc1及rc2表示的2價脂肪族烴基或2價芳香族烴基可以具有羧基。rc3及rc4表示的碳原子數為1~10的烷基可以為直鏈,也可以為支鏈,也可以為環狀。具體而言,可舉出甲基、乙基、丙基、丁基等。rc1優選為單鍵或可以具有羧基的碳原子數為1~10的2價脂肪族烴基,更優選為單鍵或可以具有羧基的碳原子數為1~10的2價的直鏈脂肪族烴基。rc2優選為單鍵。rc3優選為氫原子。rc4優選為氫原子。上述式(c1)表示的化合物進一步優選為下述式(c2)表示的化合物。[化學式35]前述式(c2)中,p為0~2的整數。本發明的組合物中,有機硅化合物(a)為上述式(a1-2)表示的有機硅化合物(a1)、或上述式(a2-2)表示的有機硅化合物(a2),金屬化合物(b)為上述式(b2)表示的化合物,并且,羧酸化合物(c)為在碳原子數為1~3的飽和或不飽和的直鏈狀烴基的兩末端鍵合有羧基的二羧酸。本發明的組合物(第1~第3組合物)中,上述羧酸化合物(c)與有機硅化合物(a)(有機硅化合物(a1)或(a2))和金屬化合物(b)的總和之比(c/(a+b))優選為1~21質量%。質量比c/(a+b)更優選為2質量%以上,進一步優選為4質量%以上,另外,優選為20質量%以下,更優選為18質量%以下,進一步優選為15質量%以下。對于本發明的組合物(第1~第3組合物)而言,除了有機硅化合物(a)、金屬化合物(b)及羧酸化合物(c)之外,還可包含溶劑(d)。作為溶劑(d),可舉出醇系溶劑、醚系溶劑、酮系溶劑、酯系溶劑、酰胺系溶劑等親水性有機溶劑。作為前述醇系溶劑,可舉出甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、二乙二醇等,作為前述醚系溶劑,可舉出二甲氧基乙烷、四氫呋喃、二氧雜環己烷等,作為酮系溶劑,可舉出丙酮、甲基乙基酮(2-丁酮)等,作為酯系溶劑,可舉出乙酸乙酯、乙酸丁酯等,作為酰胺系溶劑,可舉出二甲基甲酰胺等。其中,優選醇系溶劑、醚系溶劑,更優選醇系溶劑。另外,本發明的第1組合物包含催化劑(e),另外,本發明的第2及第3組合物中也優選共存有催化劑(e)。催化劑(e)可從在溶膠-凝膠法中通常使用的鹽酸等酸催化劑、堿催化劑、有機金屬催化劑等中選擇。催化劑(e)優選為酸催化劑,進一步優選為無機酸的催化劑。另外,酸催化劑優選為pka(酸解離常數)為5以下的催化劑,進一步優選為pka為5以下的無機酸(例如鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸等)。作為無機酸,優選鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸等。相對于有機硅化合物(a)與金屬化合物(b)的合計100摩爾份而言的、催化劑(e)的比例(e/(a+b)×100)通常為0.1~5摩爾份,優選為0.2~4摩爾份。本發明的組合物中,在包含酸催化劑的情況下優選的是,包含:有機硅化合物(a)(即,有機硅化合物(a1)或(a2))及金屬化合物(b)被含有水的酸催化劑水解而得到的水解縮合物、和羧酸化合物(c),該酸催化劑為pka為5以下的催化劑。對于本發明的第1或第2組合物而言,優選的是,包含上述式(a1)表示的有機硅化合物(a1)及金屬化合物(b)被含有水的酸催化劑水解而得到的水解縮合物、和羧酸化合物(c),前述酸催化劑為無機酸。另外,對于本發明的第3組合物而言,更優選的是,包含上述式(a2)表示的有機硅化合物(a2)及金屬化合物(b)被含有水的酸催化劑水解而得到的水解縮合物、和羧酸化合物(c),前述酸催化劑為無機酸。為了制備包括優選方式在內的本發明的組合物,例如,優選的是,向有機硅化合物(a)及金屬化合物(b)(根據需要而溶解于溶劑(d)中后)中,添加含有水的酸催化劑(優選pka為5以下的酸催化劑),進行30分鐘~3小時左右的攪拌等,從而進行混合(在該時間點,包含有機硅化合物(a)及金屬化合物(b)被含有水的酸催化劑水解而得到的水解縮合物),然后,添加羧酸化合物,進行10~30小時左右的混合。然后,根據需要,可進一步添加溶劑(d),來調節有機硅化合物(a)、金屬化合物(b)和羧酸化合物(c)的固態成分濃度。在添加羧酸化合物(c)時,可預先將羧酸化合物溶解于溶劑(d)而制備羧酸化合物溶液,并添加該溶液。本發明的組合物(第1~第3組合物)中的有機硅化合物(a)、金屬化合物(b)和羧酸化合物(c)的固態成分濃度優選為0.02質量%以上且20質量%以下。該固態成分濃度(a+b+c)更優選為0.05質量%以上,進一步優選為0.5質量%以上,另外,更優選為5質量%以下,進一步優選為3質量%以下。另外,本發明的組合物中的有機硅化合物(a)和羧酸化合物(c)的固態成分濃度(a+c)優選為0.001質量%以上,更優選為0.007質量%以上,另外,優選為0.7質量%以下,更優選為0.5質量%以下。本發明的第2組合物中,如上所述,式(a1)表示的有機硅化合物(a)和羧酸化合物(c)的固態成分濃度為0.001質量%以上且3.5質量%以下,該要件在本發明的第1組合物中也是優選的。在第1及第2組合物中,有機硅化合物(a)和羧酸化合物(c)的濃度均更優選為0.002質量%以上,進一步優選為0.01質量%以上,更優選為3.0質量%以下,進一步優選為2.5質量%以下。另外,第1及第2組合物中,有機硅化合物(a)和羧酸化合物(c)的濃度優選為0.007質量%以上,優選為0.7質量%以下,更優選為0.5質量%以下。本發明的組合物(第1及第2組合物)中,式(a1)表示的有機硅化合物(a1)、式(b1)表示的金屬化合物(b)和羧酸化合物(c)的總濃度優選為0.002質量%以上,優選為30質量%以下。第1及第2組合物中的有機硅化合物(a1)、金屬化合物(b)和羧酸化合物(c)的濃度更優選為0.01質量%以上,進一步優選為0.02質量%以上,更進一步優選為0.05質量%以上,更優選為20質量%以下,進一步優選為10質量%以下。另外,第1及第2組合物中的有機硅化合物(a1)、金屬化合物(b)及羧酸化合物(c)的濃度可以為0.5質量%以上,可以為5質量%以下,可以為3質量%以下。本發明的第3組合物中,式(a2)表示的有機硅化合物(a2)、金屬化合物(b)和羧酸化合物(c)的固態成分濃度優選為0.002質量%以上,優選為30質量%以下。該固態成分濃度更優選為0.05質量%以上,更優選為0.01質量%以上,進一步優選為0.02質量%以上,更進一步優選為0.05質量%以上,另外,更優選為20質量%以下,進一步優選為10質量%以下,進一步優選為3質量%以下。另外,在第3組合物中,有機硅化合物(a2)、金屬化合物(b)和羧酸化合物(c)的濃度可以為0.5質量%以上,可以為5質量%以下,可以為3質量%以下。本發明的第3組合物中,式(a2)表示的有機硅化合物(a2)及羧酸化合物(c)的固態成分濃度優選為0.001質量%以上,進一步優選為3.5質量%以下。有機硅化合物(a2)及羧酸化合物(c)的濃度更優選為0.002質量%以上,進一步優選為0.01質量%以上,更優選為3.0質量%以下,進一步優選為2.5質量%以下。另外,第3組合物中,有機硅化合物(a2)和羧酸化合物(c)的濃度優選為0.007質量%以上,優選為0.7質量%以下,更優選為0.5質量%以下。本發明的組合物(第1~第3組合物)可以在不妨礙本發明的效果的范圍內含有硅烷醇縮合催化劑、抗氧化劑、防銹劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、防霉劑、抗菌劑、生物附著防止劑、除臭劑、顏料、阻燃劑、防靜電劑等各種添加劑。另外,作為使本發明的組合物(第1~第3組合物)與基材接觸的方法,可舉出例如將組合物涂覆于基材的方法,可舉出旋涂法、浸涂法、噴涂法、輥涂法、棒涂法、手涂(使液體滲入至布等中并涂覆于基材的方法)、澆流(使用滴管(spuit)等直接向基材上澆注液體而進行涂布的方法)、噴霧(使用噴霧器向基材涂布的方法)等。尤其是,從作業性的觀點考慮,優選手涂、澆流、噴霧、噴涂法。通過在使本發明的組合物與基材接觸的狀態下,在空氣中,在常溫下靜置(例如0.5小時~48小時,優選10小時~48小時)或進行10~30小時左右的加熱(例如300℃以下),從而能吸收空氣中的水分,能促進水解性基團的水解·縮聚,能在基材上形成被膜。還優選進一步將得到的被膜干燥。被膜的膜厚例如可以為1~50nm左右。與本發明的組合物(第1~第3組合物)接觸的基材沒有特別限制,基材的形狀可以為平面、曲面中的任何,也可以是組合多個面而成的三維結構。另外,基材的材質也沒有限制,由有機系材料、無機系材料構成均可。作為前述有機系材料,可舉出丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂、丙烯酸系-苯乙烯共聚樹脂、纖維素樹脂、聚烯烴樹脂等熱塑性樹脂;酚醛樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯、有機硅樹脂、聚氨酯樹脂等熱固性樹脂;等等,作為無機系材料,可舉出陶瓷;玻璃;鐵、硅、銅、鋅、鋁等金屬;包含前述金屬的合金;等等。可預先對前述基材實施易粘接處理。作為易粘接處理,可舉出電暈處理、等離子體處理、紫外線處理等親水化處理。另外,可使用基于樹脂、硅烷偶聯劑、四烷氧基硅烷等的底漆處理。另外,可實施基于樹脂、硅烷偶聯劑、四烷氧基硅烷等的底漆處理,也可預先將聚硅氮烷等玻璃被膜涂布于基材。實施例以下,舉出實施例進一步具體地說明本發明。本發明不受以下的實施例的限制,當然也可以在可適合于前述、后述的主旨的范圍內適當地施加變更而實施,它們均被包含在本發明的技術范圍內。實施例1(涂覆液的制作)將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯(四乙氧基硅烷)4.791×10-3mol溶解于異丙醇1.2ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.4ml,然后,進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的丙二酸溶液1.3ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液1。用異丙醇以30倍的體積比將前述試樣溶液1稀釋,制作涂布溶液1。涂布溶液中的各化合物的比例(摩爾份、質量份)如表1中記載(其他實施例及比較例也同樣)。(被膜的制作)以仰角成為80°的方式設置經堿洗滌的玻璃基板5×5cm2(eaglexg,corning公司制)。使用滴管,遍及玻璃基板整面地澆流0.5ml的涂布溶液1,然后在常溫下放置24小時,使其固化,由此,在玻璃基板上形成被膜。然后,利用后述的測定方法進行被膜的評價。另外,在將前述涂布溶液1在常溫下保存30天后,也利用與上述同樣的方法在玻璃基板上形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例2將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯4.791×10-3mol溶解于異丙醇1.8ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.4ml,然后,進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的草酸溶液0.67ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液2。用異丙醇以30倍的體積比將前述試樣溶液2稀釋,制作涂布溶液2。除了使用涂布溶液2以外,與實施例1同樣地操作,在涂布溶液2剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例3將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯4.791×10-3mol溶解于異丙醇1.8ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.4ml,然后,進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的馬來酸溶液0.67ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液3。用異丙醇以30倍的體積比將前述試樣溶液3稀釋,制作涂布溶液3。除了使用涂布溶液3以外,與實施例1同樣地操作,在涂布溶液3剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例4將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯4.791×10-3mol溶解于異丙醇1.8ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.4ml,然后,進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以20倍的質量比進行了稀釋的琥珀酸溶液0.67ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液4。用異丙醇以30倍的體積比將前述試樣溶液4稀釋,制作涂布溶液4。除了使用涂布溶液4以外,與實施例1同樣地操作,在涂布溶液4剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例5將8.0×10-5mol的上述式(a2-2)中的n為24的化合物1、和1.591×10-3mol原硅酸四乙酯溶解于5.3ml的2-丁酮中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液3.1ml,然后進行1小時攪拌,滴加用2-丁酮以10倍的質量比進行了稀釋的丙二酸溶液0.26ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液5。用2-丁酮以20倍的體積比對前述試樣溶液5進行稀釋,制作涂布溶液5。利用旋涂法將涂布溶液5涂布于與實施例1同樣的玻璃基板上,在常溫下放置24小時,然后于規定的溫度使其固化,得到被膜。使用mikasa公司制旋涂機,在轉速為3000rpm、20sec的條件下進行制膜。除此之外,與實施例1同樣地操作,在涂布溶液5剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例6將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯4.791×10-3mol溶解于異丙醇2.5ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加用水稀釋、已調節成0.7m的濃度的丙二酸水溶液1.4ml,然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液6。用異丙醇以30倍的體積比將試樣溶液6稀釋,制作涂布溶液6。除了使用涂布溶液6以外,與實施例1同樣地操作,在涂布溶液6剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。比較例1將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯4.791×10-3mol溶解于異丙醇2.5ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.4ml,然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到比較試樣溶液1。用異丙醇以30倍的體積比將比較試樣溶液1稀釋,制作比較涂布溶液1。除了使用比較涂布溶液1以外,與實施例1同樣地操作,在比較涂布溶液1剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。比較例2將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯4.791×10-3mol溶解于異丙醇1.8ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.4ml,然后,進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的乙酰丙酮溶液0.67ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到比較試樣溶液2。用異丙醇以30倍的體積比將比較試樣溶液2稀釋,制作比較涂布溶液2。除了使用比較涂布溶液2以外,與實施例1同樣地操作,在比較涂布溶液2剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。比較例3將正癸基三甲氧基硅烷1.84×10-4mol、原硅酸四乙酯4.791×10-3mol溶解于異丙醇1.8ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.4ml,然后,進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的丙二酸二乙酯溶液0.67ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到比較試樣溶液3。用異丙醇以30倍的體積比將比較試樣溶液3稀釋,制作比較涂布溶液3。除了使用比較涂布溶液3以外,與實施例1同樣地操作,在比較涂布溶液3剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例7將正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、原硅酸四乙酯(四乙氧基硅烷)3.77×10-3mol溶解于異丙醇2.98ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液0.64ml,然后,進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的丙二酸溶液0.26ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液7。用異丙醇以3倍的體積比將前述試樣溶液7稀釋,制作涂布溶液7。在玻璃基板上形成被膜時,利用mikasa公司制旋涂機,在轉速為3000rpm、20sec的條件下旋涂0.2ml的涂布溶液7,除此之外,與實施例1同樣地操作,在涂布溶液7剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例8將正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、原硅酸四乙酯(四乙氧基硅烷)3.77×10-3mol溶解于異丙醇1.3ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.3ml,然后進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的丙二酸溶液1.3ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液8。用異丙醇以500倍的體積比將前述試樣溶液8稀釋,制作涂布溶液8。在玻璃基板上形成被膜時,用噴霧器將涂布溶液8制成膜,除此之外,與實施例1同樣地操作,在涂布溶液8剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。實施例9將正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、原硅酸四乙酯(四乙氧基硅烷)3.77×10-3mol溶解于異丙醇2.0ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加0.01m鹽酸水溶液1.3ml,然后進行1小時攪拌,滴加用異丙醇以10倍的質量比進行了稀釋的丙三羧酸溶液0.67ml。然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到試樣溶液9。用異丙醇以500倍的體積比將前述試樣溶液7稀釋,制作涂布溶液9。除了使用涂布溶液9以外,與實施例8同樣地操作,在涂布溶液9剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。比較例4將正癸基三甲氧基硅烷2.72×10-4mol、原硅酸四乙酯7.09×10-3mol溶解于異丙醇1.3ml中,在室溫下進行20分鐘攪拌。向得到的溶液中滴加用水稀釋、已調節成0.7m的濃度的丙二酸水溶液1.3ml,然后,從配液開始起,進行24小時攪拌,得到比較涂布溶液4。除了使用比較涂布溶液4以外,與實施例7同樣地操作,在比較涂布溶液4剛制備后及在常溫下保存30天后,分別形成被膜,利用后述的測定方法進行被膜的評價。對于上述的實施例及比較例中得到的被膜,按照以下的要點進行滑落速度的測定。使用接觸角測定裝置(dm700,協和界面科學公司制),在以20°傾斜的基板上滴下50μl的水滴,測定水滴從初始滴下位置滑落1.5cm的時間,計算被膜表面的滑落速度。將實施例及比較例中制作的被膜的評價結果與被膜形成用組合物的成分一同示于表5、6。需要說明的是,表中的各成分的“質量份”表示各成分相對于總成分而言的質量比例。實施例6及比較例4的質量份包含用于稀釋的水在內為100質量份。[表5][表6]對于包含有機硅化合物(a)、金屬化合物(b)和羧酸化合物(c)的實施例1~6而言,即使在將涂布溶液保存30天后制成的被膜上,也顯示了40mm/秒以上的良好的滑落速度,另外,30天間的滑落速度的降低率被抑制在50%以下,顯示了良好的保存穩定性。另一方面,對于不包含羧酸化合物(c)的比較例1~3(比較例2、3的乙酰丙酮及丙二酸二乙酯為包含羰基但不含羧基的化合物)而言,將涂布溶液保存30天后制成的被膜的滑落速度低于40mm/秒,并且30天間的滑落速度的降低率大于50%。另外,使用接觸角測定裝置(dm700,協和界面科學公司制),利用液滴法(分析方法:θ/2法,水滴量:3.0μl),測定被膜表面的接觸角,結果,在涂布溶液剛制備后制成的被膜的接觸角為,實施例1:109.5°,實施例2:106.3°,實施例3:107.2°,實施例4:107.3°,實施例5:99.6°,實施例6:104.5°,實施例7:109.2°,實施例8:105.8°,實施例9:107.4°,接觸角均為95°以上(優選為100°以上),顯示了良好的疏水性。此外,關于各實施例,將涂布溶液在常溫下保存30天后制成的被膜的接觸角為,實施例1:101.8°,實施例2:97.7°,實施例3:96.3°,實施例4:92.9°,實施例5:101.7°,實施例6:98.8°,實施例7:104.9°,實施例8:103.7°,實施例9:106.1°,即使經過30天后,仍實現了90°以上(優選95°以上)的接觸角,可知從接觸角的觀點來看,也顯示了良好的保存穩定性。關于比較例,涂布溶液剛制備后的被膜及保存30天后的被膜的接觸角分別成為,比較例1:105.5°(剛制備后)、94.1°(保存30天后),比較例2:105.6°(剛制備后)、89.6°(保存30天后),比較例3:106.4°(剛制備后)、89.3°(保存30天后),比較例4:107.7°(剛制備后)、97.2°(保存30天后)。此外,對于上述被膜中的、在涂布溶液剛制備后得到的被膜的滑落速度大于80mm/sec的被膜,按照以下的要點進行耐磨損性的評價。使用具備帶有橡皮擦的hb鉛筆(三菱鉛筆公司)的鋼絲棉試驗機(大榮精機公司制)。在橡皮擦與被膜表面接觸的狀態下,施加500g的負荷,以40r/min的速度進行磨損試驗,反復進行試驗直至通過目視確認到剝離或損傷、或者水接觸角比試驗前的接觸角降低15°以上。結果,實施例1:250次,實施例2:200次,實施例3:250次,實施例4:250次,實施例6:150次,實施例7:250次,實施例8:200次,實施例9:300次。關于比較例,比較例1:200次,比較例2:200次,比較例3:200次,比較例4:小于10次。產業上的可利用性本發明的組合物的保存穩定性優異,另外,由本發明的組合物形成的被膜具有良好的疏水性和滑落性。因此,作為觸摸面板顯示器等顯示裝置、光學元件、半導體元件、建筑材料、汽車部件、納米壓印技術等中的基材有用。另外,由本發明的組合物形成的被膜可作為電車、汽車、船舶、飛機等運輸設備中的主體、窗玻璃(前玻璃、側玻璃、后玻璃)、鏡子、緩沖器等物品而合適地使用。另外,也可用于建筑物外壁、帳篷、太陽能發電組件、隔音板、混凝土等戶外用途。也可用于漁網、捕蟲網、水槽等。此外,也可應用于廚房、浴室、盥洗臺、鏡、廁所周邊的各構件的物品、枝形吊燈、瓷磚等陶瓷器、人造大理石、空調等各種室內設備。另外,也可用于工廠內的器具、內壁、配管等的防污處理。也適合于護目鏡、眼鏡、頭盔、彈球盤、纖維、傘、游戲道具、足球等。此外,也可作為食品用包裝材料、化妝品用包裝材料、壺的內部等各種包裝材料的防附著劑使用。當前第1頁1 2 3 
再多了解一些
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